通过熔化玻璃以从中除去几乎所有的非硅酸盐元素来产生高硅玻璃。该过程可以产生95至99％的二氧化硅。由于缺乏助熔剂，高硅玻璃极难熔化，变形温度高达1,700摄氏度，这意味着它可以在约1,000℃的高温下使用。
  
  高硅玻璃具有非常低的热量膨胀，非常好的化学耐久性，光学性能和机械性能，但极高的加工温度是大规模生产和应用的限制因素。
  
  随着技术的进步，达到更高纯度的高硅玻璃的能力得到了提高，从而可以制造出更高和更高质量的玻璃。高硅玻璃通常用于半导体工业，因为二氧化硅不会污染硅晶片，也不会污染光纤，紫外透射灯管，精密光学器件，耐火管以及复合材料中的纤维增强剂。